Washington přitvrzuje v technologické válce s Čínou. Pod tlakem je i Německo

Spojené státy dále zpřísňují svůj postup proti Číně v oblasti pokročilých technologií. Americký ministr obchodu Howard Lutnick podle dostupných informací upozornil nizozemského výrobce čipových zařízení ASML na obavy Washingtonu, že se jeden z nejvyspělejších strojů pro výrobu čipů mohl dostat do Číny navzdory dlouhodobým exportním omezením.

Ve hře jsou takzvané EUV litografické systémy, které představují klíčovou technologii pro výrobu nejmodernějších polovodičů využívaných například v umělé inteligenci, datových centrech či vojenských aplikacích. Právě přístup k těmto technologiím se Spojené státy již několik let snaží Pekingu omezit. Společnost ASML však jakékoli porušení pravidel důrazně odmítá a uvedla, že do Číny nikdy nedodala ani samotný EUV stroj, ani komponenty určené výhradně pro jeho provoz.

Celá kauza přichází v době, kdy se americko-čínský technologický konflikt dále vyostřuje. Washington se obává, že případný přístup Číny k nejpokročilejším výrobním technologiím by mohl výrazně urychlit její snahu o dosažení soběstačnosti v produkci špičkových čipů.

Napětí však nesměřuje pouze do Asie. Americká administrativa současně otevřela obchodní vyšetřování vůči Německu kvůli plánům na snížení výdajů za léčiva. Washington tvrdí, že navrhované změny mohou být vůči americkým farmaceutickým společnostem diskriminační. Pokud by Spojené státy dospěly k závěru, že německá pravidla poškozují americké zájmy, mohlo by to vést až k zavedení nových cel na německé zboží.